俄罗斯宣布造出130nm光刻机,绕过ASML,这是另起炉灶走新路
2026年9月,俄罗斯第一副总理曼图罗夫在微电子论坛上宣布了一件事: 俄罗斯和白俄罗斯联合研制的130纳米光刻机样机已经造出来了, 国产准分子激光器完成试验,整机验收今年秋天启动,年底结束。 此前俄方已 推出 350 纳米光刻机设备,短短数月就推出130纳米样机,堪称该国半导体设备领域的一项重大突破,也令中方不由得大吃一惊! 这台机器可以用来干嘛? 光刻机如果按分辨率分档:最上面是EUV(13.5纳米光源),做7纳米以下最先进逻辑芯片。 中间是DUV(248纳米KrF或193纳米ArF光源),做28纳米到90纳米;再往下是i-line(365纳米汞灯)和
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